Navegando por Autor "Ceschin, Artemis Marti"

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    Crescimento e caracterização de heteroestruturas tensionadas de InxGa1-x-As/GaAs
    (2014-02-19) Ceschin, Artemis Marti
    Utilizando a técnica de epitaxia por feixe molecular (MBE), crescemos heteroestruturas tensionadas de InxGa1-xAs sobre substratos de GaAs (100). A composição de In, a espessura para a transição 2D-3D e a espessura crítica (hc) foram determinadas através da análise \"in situ\" pelo RHEED. Os valores da hc e da espessura para a transição 2D- 3D foram observadas ser funções da composição do In e da temperatura do substrato. Um estudo do efeito da desorientação do substrato de GaAs (100) de alguns graus sobre as qualidades ópticas (PL) de poços quânticos simples e múltiplos de InxGa1-xAs/GaAs também foi realizado. Microscopia eletrônica por transmissão (TEM) foi utilizada para a verificação da qualidade das interfaces dos poços quânticos de InxGa1-x/GaAs. Algumas estruturas de dupla barreira (AlGaAs/GaAs/InAs/GaAs/AlGaAs) foram crescidas e caracterizadas opticamente (PL)
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    Sistema para epitaxia por feixe molecular
    (2015-03-31) Ceschin, Artemis Marti
    Este trabalho apresenta a instalação e operação de um sistema de Epitaxia por feixe molecular (EFM). Para tanto, foi necessário um estudo da literatura existente, a qual serviu também posteriormente para a comparação de alguns resultados obtidos. A condição de ultra-alto-vácuo (UHV) da ordem de 5.10-11mbar necessária para o crescimento de filmes de GaAs por EFM foi alcançada bombeando-se o sistema após a utilização de técnicas de limpeza de aço inox (eletropolimento) e desgasificação. As superfícies dos filmes de GaAs obtidos foram examinadas por microscopia ótica, e revelou a existência de: defeitos ovais, defeitos do tipo agulha, regiões de crescimento policristalino, regiões da superfície ricas em Gae interface substrato-filme. Além disso fizemos medidas da mobilidade Hall e alguns espectros de fotoluminescência.